HCl氣體的雜質(zhì)越低越好

    電子級(jí)氯化氫是指純度高于99.999%的高純度氯化氫氣體。除了對(duì)純度要求較高以外，對(duì)氯化氫氣體的品質(zhì)要求也非常嚴(yán)格。

    隨著微電子工業(yè)向著大尺寸、高集成化、高均勻性和高完整性方向的飛速發(fā)展，對(duì)廣泛用于單晶硅氣相拋光和外延機(jī)座腐蝕的電子級(jí)氯化氫也有了新的要求。除了應(yīng)具有99.999%以上的純度，還要求氯化氫的THC、H2O和金屬離子等有機(jī)雜質(zhì)的含量越低越好。
    電子級(jí)氯化氫主要用于外延生長(zhǎng)前硅和砷化鎵高溫氣相刻蝕，清除鈉離子。另外高純氯化氫也用于金屬表面化學(xué)處理，激光用混合氣、膠片生產(chǎn)及碳纖維表面處理。過去我國(guó)大多從美、日等國(guó)進(jìn)口電子級(jí)氯化氫，但近年來，我國(guó)電子工業(yè)所需的化學(xué)氣體的研制，在技術(shù)上已有不少突破和發(fā)展。

    淄博言赫特氣有限公司于2003年10月通過北京市科委科技成果鑒定，獲得國(guó)家授權(quán)專利，具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)。經(jīng)國(guó)內(nèi)外多家半導(dǎo)體材料生產(chǎn)企業(yè)在單晶硅片氣相拋光、外延基座腐蝕和硬質(zhì)合金鍍膜工藝中使用證明，其主要性能技術(shù)指標(biāo)與國(guó)外同類產(chǎn)品相當(dāng)，填補(bǔ)了我國(guó)電子級(jí)氯化氫產(chǎn)品生產(chǎn)的空白。